薄膜封止(CVD)

薄膜封止(TFE)は、ディスプレイの耐久性を確保し、環境の影響から保護するためのものです。この目的のために使用される化学気相成長（CVD）プロセスは、制御された大気条件下で実行されるため、プロセスチャンバー内のガス流量と圧力条件を正確に制御する必要があります。VATのCVDプロセス用真空およびガス供給バルブは、これらのプロセス用に特別に設計されています。

CVDプロセス用のVAT真空およびガス供給バルブは、非常に精密な制御が可能であるだけでなく、腐食性の高い媒体との接触に対する高い耐性を備えています。これにより、生産品質と稼働率が向上し、全体的な収益性が向上します。

薄膜の封止に関する課題を解決するためのVAT真空バルブのソリューションについては、以下の製品からお選びください。