CVD

化学的気相成長（CVD）プロセスは、ディスプレイの耐久性を確保し、環境の影響から保護するための薄膜封止などに使用されます。CVDプロセスは、プロセスチャンバー内のガス流量と圧力条件を正確に制御する必要があり、制御された大気条件の下で実行されなければなりません。CVDプロセス用のVAT真空およびガス供給バルブは、このような条件に合わせて特別に設計されています。

精度と耐久性

CVDプロセス用のVAT真空およびガス供給バルブは、非常に精密な制御が可能であるだけでなく、腐食性の高い媒体との接触に対する高い耐性を備えています。これにより、生産品質と稼働率が向上し、全体的な収益性が向上します。

CVDの課題を解決するためのVAT真空バルブソリューションの詳細については、以下の製品からお選びください。