高解像度ディスプレイ用トランジスタの高速化・小型化を目的としたPVDスパッタリングでは、大面積の基板に対して高い成膜均一性が求められます。このプロセスでは、真空状態の制御が重要です。VATの真空バルブソリューションは、非常に低いコンダクタンスレベルでも高精度の制御機能を提供し、パーティクルの活性化を最大限に回避しながら、信頼性の高い高頻度のアイソレーションを実現します。
スパッタリングアプリケーションの課題を解決するVAT真空バルブソリューションの詳細については、以下の製品からお選びください。
高解像度ディスプレイ用トランジスタの高速化・小型化を目的としたPVDスパッタリングでは、大面積の基板に対して高い成膜均一性が求められます。このプロセスでは、真空状態の制御が重要です。VATの真空バルブソリューションは、非常に低いコンダクタンスレベルでも高精度の制御機能を提供し、パーティクルの活性化を最大限に回避しながら、信頼性の高い高頻度のアイソレーションを実現します。
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