半導体製造

常に進化し続けるプロセスと、複雑化する最先端ファブにより、半導体製造は絶え間ない革新のサイクルを続けています。分子程度の大きさのパーティクルが半導体チップを破壊し、歩留まりを低下させるため、真空バルブにはパーティクル回避(ウェーハの欠陥を防ぐ)と信頼性の面で妥協のない性能が求められます。

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ソーラーパネル製造

太陽電池モジュールメーカーは、基板の大型化、工場の稼働率とプロセスの安定性を維持しながらスループットの向上、運用コストの削減など、多くの生産上の課題に直面しています。このような状況下では、使用される真空バルブ、特にトランスファーバルブにも革新的なコンセプトが求められます。

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ディスプレイ製造

世界のディスプレイ業界では、ガラス基板の大型化、LCDからOLEDへの移行、ディスプレイ製造プロセスの複雑化、既存設備の最適化などが進んでいます。このような動きの中で、品質や生産性の向上に貢献する高性能な真空バルブソリューションが求められています。

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照明生産(LED, OLED)

LEDや有機EL照明が大量生産されるようになると、生産はコスト重視になります。そのため、高い生産品質と大量生産が、必要な真空バルブソリューションの開発の枠組みを定義します。ここでの決定的な要因は、信頼性、低メンテナンス、低運用コストです。

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サブファブシステム

腐食性ガス、研磨性ガス、有毒ガス、凝縮ガス、高濃度の副生成物など、サブファブのプロセスは、真空バルブの機能と信頼性に大きな影響を与える可能性があります。真空バルブの主な機能は次の通りです。逆流汚染の防止、流量制御、ポンプの隔離。

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研究分野

真空を利用した研究開発は、特殊な大規模研究施設から実験室での利用まで幅広く行われています。これらのアプリケーションはすべて、技術的に可能なことの限界を探り、測定感度と品質を向上させます。研究開発用途に使用される真空バルブは、制御性の向上、過酷な条件下でも信頼性の高い長期安定したアイソレーション、不活性の物理的特性を持ち、エミッションを発生させません。

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科学機器

科学機器といっても、政府や半官半民の研究機関でカスタマイズされた大規模なものから、質量分析計や電子顕微鏡などの標準化されたハイテク機器まで、さまざまな分野で使用されています。

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薄膜コーティング

薄膜のコーティングには、CVD、PVD、MOCVD、PECVDなど、さまざまなプロセスが用いられます。すべてのプロセスに共通しているのは、アルゴン雰囲気下や真空下など、制御された大気条件下で行われることです。コーティングプロセスの効率性を高めるには、真空とガスの分配を正確に制御することが重要です。VATのバルブ技術は、この分野の標準となっています。

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産業分野

真空アプリケーションの数はほぼ無限です。ほとんどすべての産業分野において、真空アプリケーションは、さまざまな生産や製造の課題を解決するために重要な役割を果たしています。 VATはほとんどすべてのアプリケーションに適切なソリューションを提供します。

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医療・医薬品分野

真空、ひいては真空バルブソリューションは、様々な医療分野や医療機器にとって重要です。その範囲は、信頼性の高い分離と制御のための標準的な要件から、高温耐性、パーティクル放出のないこと、メンテナンスのないことなどの要件まで多岐にわたります。VATはすべての問題に対してソリューションを提供します。

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