PVD-Sputtern zur Herstellung schnellerer und kleinerer Transistoren für hochauflösende Displays erfordern Depositionsgleichmäßigkeit über große Substratflächen. Die Steuerung der Vakuumbedingungen ist dabei von entscheidender Bedeutung. VAT Vakuumventillösungen bieten hochpräzise Steuerungsmöglichkeiten auch bei sehr kleinen Leitwerten und zuverlässige hochfrequente Absperrung bei maximaler Vermeidung von Partikelaktivierung.
Um mehr darüber zu erfahren, wie eine VAT Vakuumventillösung die Herausforderungen bei Sputter-Anwendungen bewältigen kann, wählen Sie bitte aus den unten aufgeführten Produkten.
