65.5 高真空控制摆阀

高流导谱

65.5 高真空控制摆阀可提供高度可控的流导谱。由于其平稳的打开和关闭运动，粒子数和粒子生成水平极低，这也是其主要特点。

该阀门专为严苛工艺设计，例如半导体生产过程中的腐蚀性刻蚀和清洁应用，在这些应用中，当初始可控流导较低时，需要高度可控的流导谱。

65.5 高真空控制摆阀的 DN 为 250 mm (10")，可将最小流导控制为仅有 2 ls-1。由于 32 位驱动器控制器的数据处理能力出色，可将流导增加控制到非常精细的程度。此外，还可提供更快的驱动，因为相较于等效的 16 位控制器，传感器和控制命令的处理速度更快。控制器上的各种标准端口连接器可通过个人计算机或连接到过程控制单元轻松访问。

钟摆阀板机构采用极其坚固的设计，确保其能够抵抗任 何工艺副产品。为减少密封磨损并避免粒子产生及生成，打开和关闭运动是分开的。通过远离阀座的垂直运动实 现第一级流导，然后通过在水平运动中移动钟摆阀板来 增加流导。由于阀板运动可控性佳，预设的运动顺序可根据工艺要求进行精确调整。为确保密封关闭，通过获得专利的特殊压杆将阀板压在阀座上。这样可确保阀板所有 区域的密封压力均匀分布。

凭借紧凑的设计和直接安装选项以及各种其他设计选项，65.5 系列易于集成到各种真空流程中。