为了掌握不断增长的复杂性，半导体生产系统中的每个部件都必须以可重复的方式精确地满足规定的规格。这里的信条是所使用的部件的质量波动越小，生产过程的框架条件就越稳定。

虽然部件的精确重现性是当今工业生产的标准，但在具有纳米结构的半导体行业，它一再达到技术上可行的极限，因此这也决定了技术进步。

如果在分子水平上哪怕是最小的变化都能影响到半导体生产的质量和成本效益，那么用于其生产的所有部件也必须达到完全不同的标准。

今天，现代真空阀的发展不仅仅是提供阀门的核心功能，如打开、关闭或调节。作为动态部件，阀门及其运动部件改变了物理和化学条件，例如在半导体工艺室。作为腔室开启和关闭周期的核心要素，它们改变了各方面都得到理想控制和稳定的条件。压力条件的变化，例如由于工艺气体的进入，导致了腔体内部的各种动态变化、湍流、表面的热和静电反应等等。使这些变化的所有方面可测量、可计算，从而可控制是首要目标。所用阀门的行为可重复性越高，动态变化就越能得到控制。

阀门生产的一个主要挑战。在数千次的运动周期中，所有类型的阀门的行为都是完全可重复的。

为了能够应对这种极端的、几乎是零容忍的范围内的挑战，阀门的设计是至关重要的。这就是可行的基本定义所在。除了阀门的设计之外，其他领域也是决定性的。例如，材料的选择和基本部件的采购（这些部件总是相同的），然后是生产过程的设计，其中从材料到最终产品的每一步以及包装和运输都被定义并监测到最小的细节。在这里，"精确到最小的细节 "意味着事先确定所有相关的控制参数，并设计它们的监测，使之完全可重复。在细节上，这可以是定义的用于清洁部件的抹布的纺织品类型，或者是用自动螺丝刀连接两个工件时对紧固扭矩的监测。

VAT在此遵循半导体行业既定的方法，即 "完全复制"。任何高于或低于规定的变化范围的偏差都会被立即分析其原因，并采取行动使过程恢复到规定的状态。

这种方法保证了组件始终保持在规定的规格范围内，即使在较长的生产期和不同的生产地点也是如此。

为了不排除对阀门或其制造的持续改进，"完全复制 "的方法与工艺变化管理相关联，在此帮助下，对所需的工艺变化在质量和成本效益方面的影响进行评估。这种评估总是在与在其系统中安装这些阀门的客户的密切合作下进行的。

这种方法为购买系列产品的VAT客户提供了对VAT生产的高度影响，从而保证他们在阀门或真空系统的整个使用期间以及备件的使用期间始终能够使用完全相同的详细规范。这降低了应用的复杂性，并使例如半导体制造工艺的再现性更可控。