真空控制阀

与功能仅限于完全打开和关闭的真空隔离阀不同，真空控制阀可以控制体积流量。 这通常通过缩小或加宽阀门通道实现的。 控制范围因调节阀的设计原理而异。 这也称为可用电导谱。 具有非常大电导谱的阀门通常比具有小电导谱的阀门允许更精细的体积控制。 然而，设计原理和驱动类型对于阀门控制的精细度和精度也具有决定性作用。 真空控制阀主要是电驱动的，因为电驱动通常允许阀板非常精细和快速的位置变化。 两者对于精确控制都至关重要。 然而，除了电动控制阀外，还有气动解决方案，例如，移动到机械预定义的控制位置或手动解决方案。 真空控制阀也可作为无隔离功能的纯控制阀使用，即它们从不完全密封并始终允许最小的残余体积流量，或者作为控制和隔离阀也可以完全中断体积流量。

真空控制阀有多种不同的设计，因为真空系统的控制要求千差万别。 因此，在选择真空控制阀时，以下标准是决定性的：

1）阀门所要控制的最大压差水平。如果它还具有隔离功能，就不一定是阀门关闭时能承受的最大压差。
2）所要求的电导率谱的大小和其控制范围。
3）流速的大小
4）进行体积流量变化的速度
5）对体积流中的副产品或一般的侵蚀性介质的抵抗力。
6）对流量变化的敏感性，如控制过程引起的湍流。
7）对可能通过阀门排放的颗粒的敏感性。
8）阀门使用的环境温度和控制的环境温度。
9）可控性的类型为线性流量变化或动态变化，在所谓的控制曲线中，控制速度可以独立于阀板的位置而控制。

蝶形控制阀
蝶形控制阀可以在任何条件下实现出色的精确和快速的压力控制。蝶板作为节流元件，改变了阀口的传导性。集成在蝶阀中的压力控制器计算出所需的阀板位置，优化实现所需的压力。

高压蝶阀和隔离阀
HV蝶形控制和隔离阀允许在所有条件下进行出色的压力控制。蝶板作为一个节流元件，改变了阀口的传导性。集成在阀门中的压力控制器计算出所需的阀板位置，优化了所需压力的实现。

该阀的额外隔离功能避免了蝶形阀特有的较高的密封磨损。偏离中心的板式轴以及阀体和密封座的特殊几何形状使密封摩擦最小化，同时提高了密封性能。

高压控制角阀
HV控制角阀是为具有特别高的压力和高温的情况而设计的，如ALD或CVD。这样一来，即使在最高工作温度下，HV角阀也能提供异常精确的压力控制性能。

高压控制闸阀
HV闸阀被推荐用于标准真空工艺中的高循环真空控制和隔离，如半导体生产中的溅射和蚀刻工艺。HV控制闸阀满足了对耐用性、模块化和易维护性的标准要求，同时也以高可用性和低运营成本给人留下深刻印象。

超高压控制闸阀
UHV控制闸阀保证了超高真空工艺的精确控制和隔离，如半导体生产中的 "溅射 "或EUV。UHV控制闸阀满足耐用性、模块化和易于维护的标准要求，而且还以高可用性和低运行成本给人留下深刻印象。

高压摆式控制阀
HV 摆式控制阀提供优化的下游压力控制和真空隔离，尤其适用于半导体和显示器生产。HV 摆式控制阀在广泛的电导率范围内提供了一个宽广的控制范围。

流量对称控制阀
流量对称控制阀通过流量优化压力控制确保最高质量和生产率，也可用作下游控制和隔离阀。

高压控制和隔离阀组合系统
HV控制和隔离阀组合系统结合了控制和隔离阀的最佳特性。因此，这两种阀门技术的有效结合使得高性能的组合系统具有紧凑的设计。

基本上，真空控制阀被用于需要精确控制真空度的地方。例如，这对于CVD和ALD过程的精细控制是必要的。在半导体和显示器生产中，它们被用于溅射和蚀刻过程。同样，真空控制阀也用于超高真空的情况，如EUV。

真空控制阀主要用于高真空场合。然而，通过特殊规格（UHV控制闸阀），控制阀也可用于超高真空工艺。

凭借其坚固的设计，VAT真空控制阀特别适用于气流中可能存在颗粒的严酷下游工艺。这意味着，即使在有高颗粒负荷和沉积物的情况下，控制阀仍能保持完全的功能。此外，VAT真空控制阀允许广泛的特定适应性，并与客户特定的法兰和其他特殊设备兼容。此外，减少和简单的维护以及低运营成本也是令人信服的。

VAT真空控制阀在防止颗粒物方面具有出色的性能，因为关闭板的无接触运动和最佳的阻尼开启和关闭运动消除了传统阀门常见的冲击和振动。通过各种锁定技术，VAT真空控制阀还能保证在压缩空气或电源发生故障时也能安全地保持真空。