精确性和稳定性
用于薄膜沉积工艺的VAT真空阀组合被设计成即使在变化的工艺条件下也能精确、稳定地运行。主要特点包括即使在低电导率水平下的精确气体流量控制,最小化的残余气体和颗粒物排放,以及模块化设计,允许所需的真空阀被优化配置以满足特定的工艺要求。
要了解更多关于VAT真空阀解决方案如何帮助解决一系列的薄膜沉积问题,请从下面列出的产品中选择。
精确性和稳定性
用于薄膜沉积工艺的VAT真空阀组合被设计成即使在变化的工艺条件下也能精确、稳定地运行。主要特点包括即使在低电导率水平下的精确气体流量控制,最小化的残余气体和颗粒物排放,以及模块化设计,允许所需的真空阀被优化配置以满足特定的工艺要求。
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