照明蚀刻

通常情况下，蚀刻是通过离子轰击（通常是活性气体的等离子体）去除和蚀刻半导体材料的遮蔽图案，使材料从暴露的表面移除。这个过程可能导致冷凝和高水平的副作用，这可能影响真空阀的功能和可靠性。

用蚀刻工艺批量制造多层叠片需要最佳的密封技术（具有自清洁功能）和整体坚固的工具设计，以实现高正常运行时间。VAT真空阀解决方案提供了创新的功能，以确保提高工艺安全和加强工具的正常运行时间。

要了解更多关于VAT真空阀解决方案如何帮助解决蚀刻工艺问题，请从下面列出的产品中选择。