溅射

PVD溅射是显示器生产中的一个核心工艺。其中一个重要的制造步骤，例如，背板金属化即造成其中薄膜晶体管的导电轨道被沉积。随着薄膜晶体管（TFT）越来越小，基板越来越大，可控的工艺条件对持续的高制造质量的影响变得越来越重要。VAT高性能真空阀对此有决定性的影响。

为高分辨率显示器生产更快更小的晶体管的PVD溅射，需要在大面积的基材上实现高沉积均匀性。在这个过程中，真空条件的控制是至关重要的。VAT真空阀解决方案即使在非常低的电导率水平和可靠的高频隔离条件下，也提供了高度精确的控制能力，同时最大限度地避免了粒子激活。

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