PVD溅射为高分辨率显示器生产更快、更小的晶体管，需要在大面积的基片上实现高沉积均匀性。在这个过程中，真空条件的控制是至关重要的。VAT真空阀解决方案提供了高度精确的控制能力，即使是在非常低的电导率水平和可靠的高频隔离，同时最大限度地避免了粒子激活。
要了解更多关于VAT真空阀解决方案如何解决溅射应用的挑战，请从下面列出的产品中选择。
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